令和7年12月9日に、広島工場新棟開所祝賀会を執り行いましたのでお知らせいたします。

当日は弊社社長・岡本はじめ取締役および当社関係者をあわせて77名が出席し、新棟の完成を祝いました。

今回新設した新棟は、広島工場（広島県三原市）に隣接する当社保有地に建設した、半導体製造装置部品の洗浄・再生を行う2階建て施設（延べ床面積2000 平方メートル、うちクリーンルーム350平方メートル）です。
最終洗浄・乾燥工程に加え、高いクリーン度を維持した環境下で機器組立や梱包まで対応可能な設備を増設し、半導体業界に求められるさらなる高品質化に応える体制を整えております。
当社は今後も、お客様の多様なニーズに応えるため、生産体制の強化と品質向上に取り組んでまいります。

新棟完成状況

祝賀会の様子

祝賀会出席者