当社は株式会社アイヒーティング(所在地：福岡県糸島市)と共同開発した誘導加熱方式蒸着源「IHES™」の販売を開始します。
「IHES™(誘導加熱方式蒸着源)」
当社のEV-ALL®るつぼ(材料の投入量や経時的変化、成膜速度に関わらず分布形状を安定させる特徴を持つ)に株式会社アイヒーティングの誘導加熱方式を組み合わせた蒸着源になります。これにより膜厚と面内膜厚分布の極めて高い再現性に加えて、るつぼ温度や成膜速度のハイレスポンスな制御性を備えました。
導入による３つのメリット
１．デバイス作製時間を短縮
２．デバイス作製時の材料消費を削減
３．極少量材料でのデバイス作製が可能
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なお、有機EL討論会 第34回例会(2022年6月30日)において、一般講演 「有機ELデバイス作製用誘導加熱式小型蒸着源の開発」 を発表しました。
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お問い合わせ先
真空・メカトロ機器本部 業務部
TEL ：0836-72-3177
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